2019年2月1日
3月9日（土）～12日（火）の4日間の日程で東京工業大学大岡山キャンパスで開催される, 2019年第66回応用物理学会春季学術講演会のプログラムが公開されました.
D2の相馬君，M2の西君，李君，B4の横山君，斉藤君が口頭発表・ポスター発表を予定しています.
♠ 相馬 拓人：層状LiNbO2におけるp型透明超伝導:NbO6三角柱が創る新規電子状態,
9a-W933-8（薄膜・表面：酸化物エレクトロニクス）
♠ 相馬 拓人：層状p型半導体LiRhO2の薄膜成長と電気伝導性制御,
9p-PA4-9（薄膜・表面：酸化物エレクトロニクス）
♠ 横山 竜：パルスレーザ堆積法で成長したCrN薄膜の電子物性，
10p-W323-7（薄膜・表面：薄膜新材料）
♠ 西 暁登：パルスレーザ堆積法を用いたZrH2薄膜の作製：水素不定比の制御，
10p-W323-9（薄膜・表面：薄膜新材料）
♠ 斉藤 拓海：半絶縁性中間層によるβ-Ga2O3ホモエピタキシャル層の界面伝導の抑制，
11p-S011-4（合同セッションK）
♠ 李 政洙：PLD法による窒素ドープ酸化ガリウム薄膜の成長と電気特性評価，
11p-S011-6（合同セッションK）
（発表順）