学会発表予定:2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
2019年7月16日
9月18日(水)~21日(土)の4日間の日程で北海道大学札幌キャンパスで開催される, 2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会のプログラムが公開されました.
D3の相馬君,M2の矢島君,M1の武内君,張さん,横山君,林君,斉藤君,亀井君が口頭発表を予定しています.
♠ 武内 優:ペロブスカイト型La2FeCoO6人工超格子薄膜の作製,
18p-E311-1(薄膜・表面:酸化物エレクトロニクス)
♠ 矢島 達也:PLD法による層状岩塩型LiVO2とスピネル型LiV2O4の選択的薄膜成長,
18p-E311-2(薄膜・表面:酸化物エレクトロニクス)
♠ 相馬 拓人:透明Li1−xNbO2薄膜におけるシングルバンド二次元ホール超伝導,
18p-E311-13(薄膜・表面:酸化物エレクトロニクス)
♠ Shuxin Zhang (張 書馨):Highly reversible Li-ion (de)intercalation to metastable β-MoO3,
19a-E311-6(薄膜・表面:酸化物エレクトロニクス)
♠ 横山 竜:パルスレーザ堆積法で成長したCrN薄膜の電子物性 Ⅱ,
20p-C310-2(薄膜・表面:薄膜新材料)
♠ 林 遼一郎:パルスレーザ堆積法によるHfH2+x薄膜の直接合成,
20p-C310-7(薄膜・表面:薄膜新材料)
♠ 斉藤 拓海:窒素ドープ酸化ガリウム薄膜の成長とバンド構造評価,
20p-B31-13(合同セッションK)
♠ 亀井 海聖:熱硝酸による β-Ga2O3(010)表面のSi不純物除去,
20p-B31-14(合同セッションK)
(発表順)