2018年7月10日
9月18日（火）～21日（金）の4日間の日程で名古屋国際会議場で開催される, 2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会のプログラムが公開されました.
D3の若林君，D2の相馬君，M1の小林君，野口君，矢島君が口頭発表・ポスター発表を予定しています.
♠ 小林 知央：Ti4O7薄膜の電子物性制御：膜厚依存性，
18a-223-2（薄膜・表面：酸化物エレクトロニクス）
♠ 相馬 拓人：層状LiNbO2の薄膜合成とLi充放電反応を用いた超伝導特性の制御，
18a-223-9（薄膜・表面：酸化物エレクトロニクス）
♠ 矢島 達也：重い電子系スピネルLiV2O4 の薄膜成長と電気化学的Li 挿入，
18p-223-9（薄膜・表面：酸化物エレクトロニクス）
♠ 野口 裕太郎：CaH2還元によるNi薄膜のトポタクティック低温合成，
19p-234B-15（薄膜・表面：薄膜新材料）
♠ 若林 諒：PLD 法によるβ-(Ga1–yScy)2O3 薄膜成長とバンドギャップ変調，
20p-234A-1（合同セッションK）
（発表順）