前の実験装置 (一応バックアップ)

 

成膜関係

PLD(Pulsed Laser Deposition)です.パスカル製. これで成膜します.

ミストCVD(Chemical Vapor Deposition)装置です. エピテック製. 大気中での成膜が可能です.

高温管状炉です. 山田電機製 TSS-420.

管状炉恒温槽です. ヤマト科学製 DN410H.

プロセス関係


rta_2RTA装置.エピテック製.試料を不活性ガス中で熱処理します.急速昇温降温が可能です.

分析関係


X線回折装置.リガク製 Smart-Lab.粉末や薄膜の結晶構造解析に用います.

SEM(Scanning Electron Microscope)です.日立ハイテク製 S-4100L.

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afm_2AFM(Atomic Force Microscope)です.SII製 SPI3800N & SPA400.

OLYMPUS DIGITAL CAMERA紫外可視近赤外分光光度計です.島津製作所製 UV-3150.

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OLYMPUS DIGITAL CAMERAマニュアルプローバです.ハイソル製 HMP-200.